专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果1928723个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]背光模组的控制方法-CN200610078794.9无效
  • 林峰立 - 启萌科技有限公司
  • 2006-05-11 - 2007-11-14 - G09G3/34
  • 本发明是有关于一种背光模组的控制方法,其中背光模组是至少具有一第一发光组件、一第二发光组件及一第三发光组件,而控制方法是包括以下步骤:检测第一发光组件及第二发光组件的一总发光强度;检测第二发光组件及第三发光组件的一总发光强度;检测第三发光组件及第一发光组件的一总发光强度;依据该等总发光强度,而分别得到第一发光组件的发光强度、第二发光组件的发光强度及第三发光组件的发光强度;以及分别将第一发光组件的发光强度、第二发光组件的发光强度及第三发光组件的发光强度调整至其相对应的一预设发光强度
  • 背光模组控制方法
  • [发明专利]基板处理装置和该装置的分析方法-CN200710167538.1有效
  • 田中秀树;齐藤进 - 东京毅力科创株式会社
  • 2007-10-26 - 2008-05-14 - H01L21/00
  • 在处理模块(2)中,测定在腔室内零件即将更换前的导入腔室前的处理气体的发光强度(42)和通过腔室内后的处理气体的发光强度(43),在腔室内零件刚更换后,导入腔室前的处理气体的发光强度(44)与发光强度(42)一致的情况下,测定通过腔室内后的处理气体的发光强度(45),计算该发光强度(45)和发光强度(43)的变动量(47),在对晶片(W)的等离子体处理开始后,测定通过腔室内后的处理气体的发光强度(48),从该发光强度(48)之中除去所述发光强度的变动量(47),计算真正反映腔室(10)内的状态的发光强度(49),并由该发光强度(49)检知等离子体处理的终点。
  • 处理装置分析方法
  • [发明专利]一种自动调节发光强度发光设备及方法-CN201510655596.3有效
  • 陈喜玲 - TCL移动通信科技(宁波)有限公司
  • 2015-10-10 - 2020-09-25 - G06F3/01
  • 本发明公开了一种自动调节发光强度的方法,包括:发光设备在发光之前,获取当前光线需照射的目标对象的图片;判断所述目标对象中是否存在人脸,若所述目标对象中存在人脸,则检测所述人脸与所述发光设备之间的距离,并结合所述距离与发光强度以判断是否属于安全发光,若属于安全发光,则所述发光设备以当前发光强度进行发光,若不属于安全发光,则不以所述当前发光强度和距离进行发光。本发明还提供一种自动调节发光强度发光设备。本发明所提供的自动调节发光强度的方法在判断属于安全发光才进行发光,不属于安全发光则不以当前发光强度发光,如此,可有效避免用户在使用发光设备的过程中危及自己或周围人的安全。
  • 一种自动调节发光强度发光设备方法
  • [发明专利]半导体发光元件及其制法-CN200810187393.6有效
  • 李承士;殷寿志;谢馨仪;林神江 - 佰鸿工业股份有限公司
  • 2008-12-31 - 2010-07-07 - H01L33/00
  • 一种半导体发光元件,包含:一半导体晶片及一受激发光层。受激发光层覆盖于半导体晶片上,受激发光层对应半导体晶片的发光强度较强区域的厚度较厚,对应发光强度较弱区域厚度较薄,受激发光层对应于发光强度较强区域的厚度与对应于发光强度较弱区域的厚度比大于1而小于5。其制法,包含:a)提供一半导体晶片,并量测其出光强分布;b)依据该半导体晶片的出光强分布决定一受激发光层的形状,使受激发光层对应半导体晶片的发光强度较强区域的厚度较厚,对应发光强度较弱区域厚度较薄,以使各出光角度色温均匀,并制作一具有预定形状的治具;c)借由治具于半导体晶片上形成一受激发光层。目的在于借由受激发光层的形状补偿晶片发光强度不均的缺点,达到色度均匀。
  • 半导体发光元件及其制法
  • [发明专利]背光模组的控制方法-CN200610127538.4无效
  • 林峰立 - 启萌科技有限公司
  • 2006-09-12 - 2008-03-19 - G09G3/34
  • 本发明是有关于一种背光模组的控制方法,其中背光模组是具有至少三个发光元件,而控制方法是包括以下步骤:检测该等发光元件的至少二个发光元件的一总发光强度;检测该等发光元件的至少一发光元件的一总发光强度;检测该等发光元件的至少另一发光元件的一总发光强度;以及依据该等总发光强度,分别得到各发光元件的发光强度
  • 背光模组控制方法
  • [发明专利]一种背光发光强度调整方法和装置-CN202211153024.1在审
  • 于波;季栋辉;刘铂 - 中汽创智科技有限公司
  • 2022-09-21 - 2022-12-30 - G09G3/34
  • 本发明涉及了一种背光发光强度调整方法和装置,该方法包括:采集当前帧图像的图像信号,并对当前帧图像进行分区,得到多个子区域;基于灰度直方图确定子区域的初始背光发光强度;基于初始背光发光强度,对每个子区域进行空间滤波,得到子区域的滤波背光发光强度;基于当前帧图像中每个子区域的滤波背光发光强度、前一帧图像中对应子区域的目标背光发光强度,对当前帧图像进行时域滤波,得到当前帧图像中每个子区域的目标背光发光强度。上述方案使得初始发光强度根据子区域中所有像素点的灰度来确定,进而使得画面具有高对比度,并且对每个子区域进行空间滤波和时域滤波,过滤了噪声对于画质的影响,提高了画面质量,降低了能量消耗。
  • 一种背光发光强度调整方法装置

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top